產品簡介
塗佈顯影在半導體生產中扮演著至關重要的角色。在半導體製造的複雜流程中,塗佈顯影機是微影製程中重要的設備,與曝光機配套使用,共同完成精細的微影製程流程。
具體來說,塗佈顯影機主要用於在半導體晶圓片上均勻塗覆光阻劑,並進行精確的顯影處理。光阻劑是半導體製造中的一種關鍵材料,它能夠在特定光線的照射下發生化學反應,進而在晶圓片上形成精細的圖案。塗佈顯影機通過精確控制塗膠和顯影的過程,確保光阻劑的均勻性和顯影的準確性,為後續的刻蝕和沉積等步驟提供高品質的圖案樣本。
DM系列桌上型顯影機採用全封閉式設計,可避免霧氣擴散到外部,污染環境,性價比高,穩定性好,重複性佳,對微影製程有非常理想的效果。設備配有三道噴嘴(一道顯影劑、一道純水、一道氮氣吹氣),並且噴嘴位置可程式控制移動,並可微調噴嘴位置及自動手臂作用半徑,實現自動顯影和清洗作業。
產品特色
- 全封閉式顯影,避免腔內霧氣擴散到腔體外,污染環境。
- 採用抗蝕外殼,容易清理。
- 內腔採用不銹鋼材質,鏡面拋光處理,光滑,耐腐蝕,易清洗。
- 內置真空篩檢程式,防止液體吸入真空幫浦。
- 真空壓力可調,壓力值即時顯示。
- 液體流量可調,回吸可調。
[適用晶圓尺寸]: | 10mm~200mm(8"晶圓) |
[轉速解析度]: | ±1 RPM |
[塗佈速度]: | 20-3000rpm(空載) |
[塗佈加速度]: | 20~10000rpm/sec(空載) |
[時間設定]: | 1~3,000sec/step,時間設定精度: 0.1sec |
[3道噴嘴]: | 1道顯影液,1道純水,1道氮氣 |
[程序]: | 單步驟或多步驟程序可選,內置100組可編輯程序 |