微影製程
微影製程(photolithography 或 optical lithography,大陸稱為光刻工藝)是半導體元件製造製程中的一個重要步驟在微影製程中,光阻劑塗佈和顯影過程的品質直接影響到圖形轉移的精度和解析度,而塗佈及顯影機則在這一過程中的最重要部分。
- 微影製程中的塗佈過程
光阻劑塗佈是微影製程中的第一步,通常使用旋轉塗佈法將光阻劑均勻的塗佈在基板表面。光阻劑是一種光敏材料,能在曝光過程中根據曝光區域的不同變化其物理化學性質。為了確保塗佈過程的均勻性和一致性,需要選擇高精度的旋轉塗佈裝置,才可以確保光阻劑以均勻的厚度覆蓋整個基板。
- 微影製程中的顯影過程
在顯影過程中同樣非常重要,透通過精確控制顯影液的噴灑或浸漬時間、溫度和液體流動狀態,以確保顯影過程的均勻性和穩定性。顯影液的成分通常包括有機溶劑、腐蝕性化學品等,自動化系統需要根據不同類型的光阻劑工藝要求,自動調整顯影時間和液體量,避免過度顯影或顯影不足,進一步確保微圖形的準確轉移。
DM系列桌上型顯影機
顯影機是微影製程中顯影過程的一個重要設備,DM系列桌上型顯影機採用全封閉式設計,可避免霧氣擴散到外部,污染環境,性價比高,穩定性好,重複性佳,對微影製程有非常理想的效果。設備配有三道噴嘴(一道顯影劑、一道純水、一道氮氣吹氣),並且噴嘴位置可程式控制移動,並可微調噴嘴位置及自動手臂作用半徑,完成自動顯影和清洗作業。
產品特色
- 全封閉式顯影,避免腔內霧氣擴散到腔體外,污染環境。
- 採用抗蝕外殼,容易清理。
- 內腔採用不銹鋼材質,鏡面拋光處理,光滑,耐腐蝕,易清洗。
- 內置真空篩檢程式,防止液體吸入真空幫浦。
- 真空壓力可調,壓力值即時顯示。
- 液體流量可調,回吸可調。
訂購資訊
DM系列桌上型顯影機 (另可搭配自動點膠、去邊、背洗功能), 歡迎洽詢。
[適用晶圓尺寸]: | 10mm~200mm(8"晶圓) |
[轉速解析度]: | ±1 RPM |
[塗佈速度]: | 20-3000rpm(空載) |
[塗佈加速度]: | 20~10000rpm/sec(空載) |
[時間設定]: | 1~3,000sec/step,時間設定精度: 0.1sec |
[3道噴嘴]: | 1道顯影液,1道純水,1道氮氣 |
[程序]: | 單步驟或多步驟程序可選,內置100組可編輯程序 |