Bettersizer 2600-WD 先進乾濕兩用雷射粒徑分析儀 Particle Size Analyzer

乾式、溼式外部分散裝置,可自行更換

SKU: 2600-WD
MPN: 2600-WD
GTIN: 2600-WD
庫存狀況: 現貨供應中


粒徑分析儀簡介

Bettersizer 2600-WD 是Bettersize科學儀器公司全新推出的新一代乾濕兩用、先進雷射粒徑分析儀。整部粒徑儀從光學系統、樣品微粒分散系統、機構、自動化軟硬體控制,均為目前世界上同類儀器中最先進的設計,盡可能考量相關領域的研究者、科學家,所需要測量的微粒形式,讓 Bettersizer 2600-WD 成為貴單位在未來幾年的研究計畫中,最重要的分析測量工具,不至於落伍。

Bettersizer 2600-WD 乾濕兩用先進雷射粒徑分析儀,採用外部分散循環進樣系統,一部粒徑分析儀,便能夠執行乾式或濕式的微粒尺寸分析。這種分離式的外部分散循環進樣系統,得以更彈性地設計樣品的進樣流程。模組化的機構設計,讓您能夠快速在乾式、濕式兩種分析模式間切換。購買時可任意搭配所需循環進樣系統,未來若需要增加添購其他循環進樣系統,機器不需要返廠改裝,安裝連接上即可馬上使用。


Switch Between Wet & Dry Mode

模組化快速在濕式、乾式模式之間快速切換

腐蝕性溶劑適用

若您使用具腐蝕性溶劑分散樣品,比如丙酮,乙醚,甲苯這些會腐蝕塑料的溶劑,我們也有專用的抗腐蝕循環分散系統可以讓您選用,這套抗腐蝕系統,由耐腐蝕不鏽鋼材料、PTFE鐵氟龍、燒結石英等材料組成,並裝配耐腐蝕電磁閥,讓您得以測量需要用腐蝕性溶劑分散的樣品或特殊具腐蝕性的樣品。

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溶劑型專用分散模組

微量樣品適用

對於醫學藥品研發,需要處理微量珍貴藥粉的場合,我們也有專用的微量樣品乾式 or 濕式分散模組可以使用,樣品量最小只需要0.02克。

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微量樣品專用分散模組

雷射粒徑分析儀 全自動可預設操作SOP

自動化操作的相關設計,是 Bettersizer 2600-WD 乾濕兩用先進雷射粒徑儀最大的特點,您毋須特別鑽研粒徑分析的原理,儀器便能在全自動化的操作模式下,讓您獲得微粒樣品的粒徑測量結果。當然,若是您想要操控每一個步驟,Bettersizer 2600-WD 也能滿足您手動操作的需要,開放大部分的參數,讓您可以根據需要來改動、設定。

SOP

SOP自動操作流程

Bettersizer 2600-WD 採用正反傅立葉雙光學系統,結合前向、側向和後向散射技術,同時採用傾斜角樣品池技術達到全角度測量。提升了測量範圍及細顆粒端的測量精度,更提升了解析度。Bettersizer 2600-WD 也有自動雷射對焦、定位系統,以及儀器校正,經過長時間使用以後 Bettersizer 2600-WD 還是跟剛買來的時候,一樣可靠精準。

介質折射率主動測量

此外,Bettersizer 2600-WD 還具有折射率量測功能,樣品折射率牽涉到計算粒徑的關鍵因素,往往大部分使用者不知道自己待測的樣品折射率,而造成粒徑計算的誤差,Bettersizer 2600-WD 樣品折射率量測功能,即可迎刃而解。

最重要的是,Bettersizer 2600-WD 乾濕兩用、先進雷射粒徑分析儀,在價格上也具有很高的性價比。在測量結果一樣精準可靠的條件之下,讓您在有限的預算下,便能夠配置這部高檔的新一代雷射粒徑分析儀。通過實測,就知道那一家的粒徑分析儀比較好。

這款市場上最新型的 Bettersizer 2600-WD 還有更多讓您眼睛一亮的優越特點,趕快連絡勢動科技,詢問更詳細的儀器規格!

雷射粒徑分析儀特色

  • 優越的測量穩定性與再現性,獲得穩定一致的粒徑值 
  • 外接式微粒樣品進樣分散循環系統,給您更多的彈性安排 
  • 模組化設計可於乾式、濕式兩種測量模式快速切換 
  • 乾式文丘里分散進樣器,提供三種微粒分散模式,可根據樣品形式來選擇 
  • 全自動雷射光源對焦定位、校正系統,即使長時間使用以後,還能維持跟新機一樣準確 
  • 軟體符合 21 CFR Part 11 規範

應用

研磨料、電池研發、奈米碳管、水泥、陶瓷、CMP泥漿、膠體、化妝品、農藥、肥料、調味料和香料、食品與飲料、壓裂砂 (頁岩油氣)、金屬粉末、牛奶聚集體、礦產、奈米粒子、保健品、藥劑、藥物氣溶膠、長效緩釋型藥物、噴劑、顏料和油墨、聚電解質、聚合物和塑料、火力發電廠汙染、蛋白質、蛋白質聚集、道路塗染材料、冰雪粒度、土壤和沈積物、糖球、廢水處理、混凝劑。

訂購資訊

2600WD 乾式濕式雙系統先進粒徑分析儀

2600wet 溼式單系統先進雷射粒徑分析儀

2600dry 乾式單系統先進雷射粒徑分析儀

[樣品]: 懸浮液,乳液,乾粉
[粒徑測量方法]: 雷射光散射測量,基於米氏散射(Mie)與 佛朗霍菲繞射(Fraunhofer)原理
[平均測量時間]: <10sec
[測量速度]: 每秒3000個微粒
[微粒尺寸]: 濕式 20nm-2600um, 乾式 100nm-2600um
[精度]: ≤0.5% (濕式) ; ≤1% (乾式)
[再現性]: ≤0.5% (濕式) ; ≤1% (乾式)
[雷射光源]: 半導體紅光雷射, 635nm
[雷射聚焦鏡]: Dual F-Theta lenses
[有效光徑]: 300mm
[偵測器]: 92 片二維陣列光感測器,並設計有自動對焦定位功能
[濕式微粒分散系統]: 乾式及濕式外接雙分散系統 (管路需要切換)
[濕式微粒分散器]: 50W, 38KHz 超音波,並有防乾燒保護,不會損壞發射器
[濕式循環]: 空氣流速 3000-8000mL/min 自動吸水與沖洗
[乾式微粒分散系統]: 空壓機,最大 5bar 壓力。
[乾式空氣過濾器]: 三重過濾系統,過濾器孔隙 3µm, 0.3µm, 0.01µm
[空氣流量]: 0-6000L/min
[軟體]: 全功能粒徑測量軟體,可全自動控制測量過程,並可針對每個細節動作獨立設定。並提共各種檔案格式匯出功能,製作報告。符合 21 CFR Part 11 規範
[電腦連線介面]: USB 2.0
[作業系統支援]: WIndows 10, 11
[電腦規格需求]: Intel Core I5, 4GB RAM, 250GB HD 或以上配備 (需自備)
[電源]: AC 220V@60Hz
[尺寸 LxWxH]: 705mm x 318mm x 295mm
[重量]: 23kg
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