專為鈣鈦礦太陽能電池(PSCs)與前瞻光電薄膜研發打造的精密刮刀塗佈機
"Perovskite Film 200H型" 鈣鈦礦薄膜刮刀塗佈機 (Blade Coater),整合高精度驅動控制、雙重調節風刀輔助乾燥系統,以及硬質陽極氧化鋁鏡面加熱真空吸附平台,能完美解決鈣鈦礦前驅體結晶速率難以控制、大面積鈣鈦礦材料」(Perovskite Material) 成膜不均勻的問題,是科研團隊與工業量產評估的最佳塗佈設備首選。
在鈣鈦礦太陽能電池與前瞻薄膜元件的製程中,塗佈機的穩定度與成膜動力學控制是決定能量轉換效率(PCE)的核心 key factor。
200H 鈣鈦礦專用刮刀塗佈機專為解決傳統旋塗法(Spin Coating)材料浪費大、無法拓展至大面積塗佈的痛點而設計。本設備配備數位化 4.3 吋全彩觸控面板,支援 100 組多階段塗佈程序設定,結合 1–50 mm/s 精準調速與 ≤±2% 熱均勻性加熱吸附平台,確保每一道鈣鈦礦濕膜都能達到奈米級的平整度與高重複性結晶。

核心功能 (Core Features)
- 高精度基板移動與速率控制
提供 1–50 mm/s 塗佈速度,調速精度高達 1 mm/s,確保濕膜剪切力(Shear Rate)絕對穩定,有效抑制塗佈條紋與咖啡圈效應。 - 多角度/高度可調風刀系統
風刀角度支援 -45° 至 +45° 靈活調節,垂直距離調節範圍達 10–35 mm,可針對不同溶劑蒸發速率進行極速吹氣乾燥,誘導鈣鈦礦優質結晶。
- 加熱型真空吸附鏡面平台
採用硬質陽極氧化鋁鏡面研磨面板,支援 A4 尺寸真空吸附區域(0.06–0.09 MPa),結合室溫至 200°C 溫控與 1–10°C/min 升溫速率,實現原位(In-situ)熱退火乾燥。 - 多功能塗佈配件相容性
選配可調塗膜刮刀、四面塗佈器與線棒,可彈性應對不同黏度(Viscosity)的前驅體溶液與塗佈需求。 - 智慧程序控制介面
4.3 吋全彩觸控屏提供直覺操控,內建 100 組可自訂 5 步驟程序,輕鬆實現自動化多段速塗佈與吹風切換。
相關應用的國際測試標準 (International Standards)
使用200H刮刀塗佈機製作的鈣鈦礦光電薄膜與太陽能電池元件,可滿足並符合以下國際品質與可靠性測試規範:
- IEC 61215 / IEC 61646
地面用薄膜太陽電池模組設計認定和定型標準(熱循環、濕熱試驗等)。 - ASTM D3359
利用膠帶測試評估薄膜塗層附著力(Adhesion Test)標準方法。 - ISO 2808
色漆和清漆 — 漆膜厚度的測定(表面微米/奈米級薄膜厚度量測標準)。 - ASTM F1249
前瞻包覆封裝薄膜的水蒸氣透過率(WVTR)相關測試標準。
適用的應用與產業 (Applications & Industries)
"Perovskite Film 200H型" 鈣鈦礦薄膜刮刀塗佈機,、廣泛應用於先進材料研發、前瞻光電元件加工及高分子薄膜製程:
1. 鈣鈦礦太陽能電池(Perovskite Solar Cells, PSCs)
* 單結與鈣鈦礦/矽疊層(Tandem)太陽能電池的大面積刮刀塗佈。
* 電荷傳輸層(ETL/HTL,如 NiOx、Spiro-OMeTAD、PEDOT:PSS)與鈣鈦礦吸光層塗佈。
2. 有機太陽能電池(OPV)與有機光電(OPD)
* 活性層(Active Layer)溶液法大面積塗佈。
3. 鈣鈦礦發光二極體(PeLED)與 OLED:
* 高均勻度發光薄膜製程控制。
4. 軟性電子與印刷電子(Flexible Electronics)
* 導電高分子、金屬網格與透明導電膜(TCO)塗佈。
5. 固態電池與鋰電池電極膜
* 固態電解質薄膜、隔膜塗層及極片塗佈研發。
訂購資訊 (Ordering Information)
我們提供靈活的標準機型與客製化選配方案,滿足您的實驗室需求:
標準套件 (Standard Kit)
「Perovskite Film 200H型」主機 + 加熱真空吸附面板 + 可調式風刀系統 + 專用真空泵浦。
選購配件 (Optional Accessories)
- 精密可調塗膜刮刀(Micrometer Adjustable Blade)
- 四面塗佈器(Four-Sided Applicator)
- 高精度線棒(Wire Bar)
詢價與技術諮詢:請聯絡勢動科技的專業工程團隊,獲取詳細報價與樣品試塗服務。
技術補充資料
鈣鈦礦塗膜成膜動力學與 "Perovskite Film 200H型" 刮刀塗佈機的關鍵優勢
在鈣鈦礦太陽能電池的製程發展中,從實驗室小面積「旋塗法(Spin Coating)」跨越至大面積商業化的「刮刀塗佈機(Blade Coating)」,最大的技術障礙在於液相薄膜的乾燥速率與結晶核生成(Nucleation)過程的控制。
1. Landau-Levich 塗佈機制與膜厚精密控制
刮刀塗佈的濕膜厚度 (ℏ) 遵循 Landau-Levich 領域機制,主要受到溶液黏度 (η)、塗佈速度 (ν) 與表面張力 (γ) 的影響:
「Perovskite Film 200H型 鈣鈦礦薄膜專用刮刀塗佈機」 提供高達 1 mm/s 的調速精度(速度範圍 1–50 mm/s),能讓研發人員精準鎖定在 Landau-Levich 區 或 Evaporation 區,實現高重複性、無針孔(Pinhole-free)且晶界(Grain Boundary)少的大尺寸鈣鈦礦薄膜。
2. 風刀輔助乾燥(Air-Knife Assisted Crystallization)的突破
鈣鈦礦前驅體溶液(如 PbI2 與 MAI/FAI 溶於 DMF/DMSO)通常具有高沸點與低揮發性。若僅依靠自然乾燥,會因過飽和度不足導致不規則大晶粒與覆蓋率不佳。
200H 鈣鈦礦薄膜專用塗佈機,整合了強大的風刀控制系統:
* 風刀角度調節(-45° 至 +45°):可調整吹風方向,快速帶走揮發溶劑氣體,瞬間提高前驅體溶液的過飽和度(Supersaturation)。
* 高度垂直可調(10–35 mm):精準控制吹風剪切力,既能促進快速結晶,又不會破壞剛塗佈完成的濕膜表面。
3. 原位熱退火與底板真空吸附的協同效應
成核後的結晶成長需要穩定的熱能供應。「Perovskite Film 200H型 鈣鈦礦薄膜專用刮刀塗佈機」,具備室溫至 200°C 的真空加熱面板,且熱均勻度達 ≤ ±2%:
1. 真空吸附:穩固固定 Flexible 基板或剛性玻璃基板(如 ITO/FTO),防止塗佈過程因受熱翹曲或位移。
2. 原位加熱(In-situ Annealing):在刮刀塗佈的同時或塗佈完畢後立即進行熱退火,大幅加速中間相(Intermediate Phase)向鈣鈦礦黑相(Perovskite Black Phase, 如 α-CsPbI3 或 α-FAPbI3 轉化,顯著提升薄膜結晶度與載流子壽命。
為什麼 "Perovskite Film 200H型" 刮刀塗佈機,是您鈣鈦礦塗佈研究的最佳夥伴?
對比一般的塗佈設備,"Perovskite Film 200H型" 鈣鈦礦專用刮刀塗佈機 將「速度控制」、「風刀吹氣乾燥」與「底板加熱」三大結晶關鍵要素高度整合。
無論您是追求高 PCE 的學術論文發表,或是走向小量產(Mini-module)開發,"Perovskite Film 200H型" 鈣鈦礦專用刮刀塗佈機,都能提供無與倫比的塗佈重複性與成膜品質。
常見問題 FAQ (Frequently Asked Questions)
Q1:什麼是刮刀塗佈機(Blade Coater)?為什麼它非常適合用於鈣鈦礦薄膜製程?
A1:刮刀塗佈機是一種利用精密金屬刮刀或線棒,在基板上將液態前驅體溶液均勻鋪展形成薄膜的自動化塗佈設備。相較於傳統實驗室常用的旋塗法(Spin Coating)會浪費超過 90% 的溶液且難以放大面積,刮刀塗佈技術具備材料利用率高(接近 100%)、可連續大面積塗佈以及易於串聯工業卷對卷(R2R)製程等優勢,是目前鈣鈦礦太陽能電池(PSCs)從實驗室走向商業化小模組(Mini-module)生產的核心技術。
Q2:"Perovskite Film 200H型" 刮刀塗佈機在鈣鈦礦塗佈時,風刀(Air-Knife)起到了什麼關鍵作用?
A2:在鈣鈦礦塗佈過程中,風刀輔助乾燥(Air-Knife Assisted Drying)是控制成膜結晶的靈魂技術。200H刮刀塗佈機具備 -45° 至 +45° 可調風刀角度 與 10–35 mm 高度調節,當濕膜剛塗佈完成時,風刀能以精準的剪切風力帶走溶劑,迅速提高前驅體溶液的過飽和度,觸發均勻且爆發性的晶核生成(Nucleation),從而大幅抑制針孔生成,獲得緻密且高效率的鈣鈦礦薄膜。
Q3:如何透過 "Perovskite Film 200H型" 塗佈機控制鈣鈦礦薄膜的厚度與均勻度?
A3:鈣鈦礦薄膜的厚度主要由 塗佈速度(1–50 mm/s)、刮刀間隙(Blade Gap)、前驅體溶液黏度 及 溶劑揮發速率 共同決定。"Perovskite Film 200H型" 提供高達 1 mm/s 的調速精度,能讓研究人員精準維持在 Landau-Levich 塗佈機制下;配合熱均勻度達 ≤ ±2% 的真空加熱面板,能在塗佈過程中保持基板溫度穩定,有效降低薄膜邊緣效應與乾燥條紋。
Q4:"Perovskite Film 200H型" 除了鈣鈦礦太陽能電池(PSCs),還適用於哪些薄膜塗佈領域?
**A4**:除了鈣鈦礦吸光層與電荷傳輸層(ETL/HTL)外,"Perovskite Film 200H型" 塗佈機廣泛適用於:
- 有機太陽能電池(OPV) 與 有機光電探測器(OPD) 的活性層塗佈。
- 鈣鈦礦發光二極體(PeLED) 與 OLED 之發光薄膜。
- 固態電池(Solid-State Battery) 的固態電解質膜與電極極片塗布。
- 軟性電子元件 之透明導電膜(TCO)與導電高分子塗佈。
Q5:"Perovskite Film 200H型" 支援哪些塗佈配件與操作模式?
A5:"Perovskite Film 200H型" 具備極高的硬體擴展性與自動化能力:
- 選配塗佈工具:可根據溶液黏度選配精密可調刮刀、四面塗佈器或高精度線棒(Wire Bar)。
- 智慧程序控制:內建 4.3 吋全彩觸控面板,支援多達 **100 組、每組 5 步驟的塗佈程序設定**,可自動同步執行「段速塗佈、加熱退火、風刀吹氣」等複合製程。
| [塗佈速度]: | 1 – 50 mm/s |
| [調速精度]: | 1 mm/s |
| [有效行程長度]: | 250 mm |
| [真空面板尺寸]: | 380 mm × 210 mm |
| [真空吸附區域]: | A4 尺寸 |
| [真空輸入要求]: | 0.06 – 0.09 MPa,流量 ≥ 15 L/min |
| [真空接口規格]: | 後面板出口外徑 6 mm |
| [加熱溫度範圍]: | 室溫 – 200°C |
| [升溫速率控制]: | 1 – 10°C/min 可調 |
| [熱均勻性]: | ≤ ±2% |
| [風刀角度調節]: | -45° 至 +45° |
| [風刀高度調節範圍]: | 10 – 35 mm (垂直調節) |
| [控制系統]: | 4.3 吋全彩觸控屏,100 組 5 步程序 |
| [電源輸入]: | AC 220V,單相,2.0KW |
