粒徑分析儀

為什麼要做粒徑分析？
主要是因為製品或原料微粒的大小，會影響反應速率，溶解快慢，堆積密度，容易沈澱與否，吸入口鼻的有效性，最終產品外觀、紋理，等等的結果。所以需要在製程之前，或者製程中間，確認或監控微粒的大小，才需要粒徑分析儀這樣的儀器來測量微粒的尺寸。

有哪些粒徑分析的方法？
主要的方法有：
電子顯微鏡法（SEM/TEM）：最直覺，但只能看到片面的狀況，難以巨觀分析。
雷射繞射法 (LD)：執行巨觀分析，統計粒徑分佈，更切合實際製品或原料的狀況。幾乎沒有維護成本，適合產業使用。
動態光散射法（DLS）：應用於奈米級的微粒，小量操作測量。
小角度X光散射法 (SAXS)：用在那些處於非流動性溶液中的微粒，缺點是這種機器需要申請操作執照，且後續X光管的耗材成本高。

Bettersizer 2600 乾溼兩用粒徑分析儀

Bettersizer 2600E是Bettersize科學儀器公司最新推出的一款乾式、濕式兩用雷射粒徑分析儀，Bettersizer 2600E承襲了Bettersizer 2600-WD 先進乾濕兩用雷射粒徑分析儀的卓越功能，與Bettersizer 2600-WD一樣採用正、反傅立葉結合光學系統，測量範圍寬的粒徑測試新技術也用到基礎型Bettersizer2600E乾濕法雷射粒徑性測試領域，使Bettersizer2600E真正實現了價格“經濟”但性能“不經濟”，在預算規劃上更有彈性。 

先進技術粒徑分析儀

Bettersizer 2600E 所採用的正反傅立葉量測，結合光路系統的最大特點，是用一個雷射光束，以更大的角度，接收前向、側向的散射光信號，從而可對粒徑從微米到毫米等級的樣品的準確粒徑測試。同時，這部粒徑分析儀，還設計自動對焦技術、防乾燒超音波分散技術、SOP技術、偏振光技術，等等測量輔助功能，讓Bettersizer 2600E成為具有極佳性能的高階粒徑分析儀。

分離式乾式分散器、溼式分散器

Bettersizer 2600E 粒徑分析儀，具有乾式、濕式法兩用功能，客戶可依實際的需求來搭配乾式法或濕式法的樣品分散器。對適合濕式法分析的樣品配有濕式水迴圈分散器，就是一台濕式法雷射粒徑分析儀；對易溶解的如藥品和磁性材料、水泥等樣品，配上乾式法分散系統，就是成為乾式法雷射粒徑分析儀。這款一機兩用的機型，可以讓您的粒徑分析工作，囊括絕大部分的材料。

溼式粒徑儀與乾式粒徑儀快速切換

若同時有乾濕兩類樣品需求的用戶，乾、濕法轉換非常方便，系統採用全快拆接頭，由客戶自行更換兩分鐘內即可完成。此外，濕式法系統具有自動測試、自動進水、自動排水、自動消除氣泡、自動清洗等功能；乾式法系統具有自動調壓、自動進樣、自動分散、自動測試、負壓監測等功能。全智能化的設計不僅簡化操作，提高效率，還能保證測試資料的重複性和準確性。

粒徑分析儀產品特色 

• 乾濕法兩用技術：獨特設計的乾濕法一體測試艙，讓乾濕法轉換更方便快捷。 
• 鏡頭：採用大口徑膠合消色差透鏡，接收散射光的角度增大，對大小顆粒產生的散射光都有很好的分辨力。
• 空氣動力學原理設計的進出氣體通道，避免鏡頭受污染。
• 極高的重複性：採用隨機函數識別技術和高速前置放大技術保持信號穩定，確保了系統的重複性和準確性。雷射器、偵測器、信號傳輸系統穩定可靠。
• 自動對焦系統使儀器始終保持在最佳狀態。
• 採樣速度達3500次/秒，有效減少大量資料中少數異常資料對重複性的影響。
• 採用動態函數識別技術，高速前置放大技術，保持儀器信號穩定。
• 採用半導體雷射器，輸出穩定，單色性好，效率高，有效提升測量精度。
• 偵測器數量達88個，搭配高性能軟體，無論樣品是單峰、雙峰還是多峰都能準確測試。

粒徑儀的產業應用

1. 各種非金屬粉：如重鈣、輕鈣、滑石粉、高嶺土、石墨、矽灰石、水鎂石、重晶石、雲母粉、膨潤土、矽藻土、黏土、二氧化矽、石榴石、矽酸鋯、氧化鋯、氧化鎂、氧化鋅等。
2. 各種金屬粉：如鋁粉、鋅粉、鉬粉、鎢粉、鎂粉、銅粉以及稀土金屬粉、合金粉等。
3. 其它粉體：河泥、電池材料、催化劑、螢光粉、水泥、磨料、醫藥、農藥、 肥料、食品、塗料、染料、石墨、陶瓷原料、化工材料、奈米材料、造紙填料塗料、各種乳液等。
4. 乳化液

訂購資訊

Bettersizer 2600E 乾濕兩用型雷射粒徑分析儀

粒徑分析儀的價格

一般而言，一台全新的粒徑分析儀價格大約在 $20,000 至 $70,000 之間。二手市場的價格，通常介於 $10,000 至 $35,000 之間，但二手儀器的性能與殘餘利用價值則比較難估算，因為一台雷射粒徑分析儀的性能，取決於它的光學零組件（雷射光源、鏡片、偵測器），循環蠕動泵浦，超音波振盪器，電子電路。這些零組件的性能，又與原來使用單位平時的操作與保養方式，還有供應商是否提供未來三、五年的維修服務與合理費用？也都是需要考量的維護成本要素。（以上提到金額單位是美金）。

整體而言，粒徑分析儀的價格，主要取決於以下幾個因素：

技術：不同的技術（如雷射繞射、動態光散射、影像分析等）對應不同的價格範圍。

功能：具備進階功能（如測量電位或顆粒形狀）的分析儀通常價格較高。

規格：測量範圍、解析度和準確度等規格也會影響價格。

製造商：某些製造商以生產高端、昂貴的設備而聞名。

勢動科技為您帶來高性價比，並經過實際在各行業販售多年的績優粒徑分析儀器。排除那些不必要的花俏功能，專注於您所需要的測量本身，符合您的研究、品管需要，讓您在有限的預算下，能夠發揮最大經濟效益，並得到可靠的測量結果。

歡迎您聯絡勢動科技，我們將有專人為您服務。

粒徑分析技術補充說明

雷射粒徑分析儀測試原理

由雷射器發出的一束雷射，經濾波、擴束、準直後變成一束平行光，在該平行光束沒有照射到顆粒的情況下，光束穿過傅氏透鏡後在對焦平面上彙聚形成一個很小很亮的光點----焦點；當顆粒通過雷射光束中時，顆粒將使雷射發生散射現象，一部分光向與光軸成一定的角度向外散射（如下圖所示）。大顆粒引發的散射光的散射角小，小顆粒引發散射光的散射角大。這些不同角度的散射光通過富氏透鏡後將在聚焦平面上將形成一系列的光環，由這些光環組成的明暗交替的光斑稱為Airy 光斑。我們在聚焦平面上安裝一系列光電偵測器，將這些光環轉換成電子信號，並傳輸到電腦中，再根據米氏散射理論和反演計算，就可以得出粒徑分佈了。

雷射粒徑分析儀分析的背景值

在粒徑分析中，背景是雷射光束通過樣品池及純淨介質後在偵測器上形成的固定的光信號。產生背景的主要原因是雷射由空氣進入樣品池玻璃(前)、介質、樣品池玻璃(後) 再返回空氣的過程中，發生的折射、反射現象，加上樣品池玻璃、介質和透鏡上可能的微小污染的綜合作用引起的。測量背景的目的就是要在粒徑測試時扣除這些固定的、與樣品無關的信號，消除樣品散射光以外的因素對測量結果的影響，確保測量結果的準確可靠。

影響背景值的因素有哪些

雷射粒徑分析儀良好的背景狀態必須同時具備以下五點：數值較低(0.3-6)、長度短(占20個通道以內)、形狀斜(從左逐漸遞減)、位置左（位於座標最左側）和穩定。

影響雷射粒徑分析儀的背景狀態的因素有以下原因：一是對焦不良，二是樣品池粘附顆粒或結霧，三是介質不乾淨，四是雷射器老化。此外像樣品池中沒有介質、環境空氣中灰塵太多、富氏透鏡髒等也可能造成背景狀態異常。如果出現背景異常，首先要檢查樣品池是否乾淨，然後檢查樣品池中是否有介質和介質中是否有雜質，再檢查對焦狀態是否良好等。如果還不能找到背景異常的原因。

如何快速判斷雷射粒徑分析儀是否正常

通過觀察背景狀態來快速判斷雷射粒徑分析儀儀是否正常。如果背景值大於6或信號形狀凸凹不平，代表對焦不良，背景值小於0.3 代表雷射器亮度下降；背景信號長度超過20個通道，代表樣品池髒或結霧；在背景座標的右邊有背景信號，需要檢查樣品池和介質是否乾淨。背景是在雷射穿過充滿純淨介質的樣品池後各個角度探測器上接收到的光電信號，它能直接反映儀器的狀態，因此通過觀察背景狀態，就可以快速判斷雷射粒徑儀是否正常。

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