高溫鑽石高壓砧 High Temp DAC

高溫鑽石高壓砧光學氣體薄膜樣品室配件

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產品簡介

Almax easyLab 的高溫鑽石高壓砧,光學氣體薄膜樣品室配件,能讓您將樣品置於高壓高溫的環境,並進行光學、光譜特性的研究。本產品系列,可用於紅外光譜、近紅外光譜、拉曼光譜、X光繞射、螢光光譜的相關儀器,讓樣品在高溫高壓的環境中,觀察其特性。

本系列產品採用440C不鏽鋼,耐高溫,耐高壓,通常可在 500°C - 600°C 的環境下操作。HeliosDAC的耐溫甚至可高達1000°C。

產品規格特色

勢動科技為您引進的 Almax easyLab 高溫高壓光學氣體薄膜樣品室,大致分為這些壓力區間 (高壓款同時適用於一般壓力):

  • 超高壓系列 (<50 GPa)
  • 極高壓系列 (>90 GPa)

超高壓系列 (<50 GPa)

μScopeDAC-HT(G) μScopeDAC-HT(G)Plus

μScopeDAC-HT(G)

[用途]: 顯微拉曼,FTIR。far-IR, Fluorescence, FTIR, Infrared, Microscopy, Raman

[主體材質]: Stainless Steel AISI 440C

[加壓方式]: 氣體薄膜

[最大壓力]: 50 GPa

[溫度範圍]: up to 600°C

[外徑]: 60 mm

[高度]: 25 mm

[工作距離]: 12 mm

[數值孔徑]: 0.44

[機構相容設計]: 通用

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μScopeDAC-HT(S) 

μScopeDAC-HT(S)

[用途]: 顯微拉曼,FTIR。far-IR, Fluorescence, FTIR, Infrared, Microscopy, Raman

[主體材質]: Stainless Steel AISI 440C

[加壓方式]: 螺栓 (LH/RH bolts)

[最大壓力]: 50 GPa

[溫度範圍]: up to 600°C

[外徑]: 60 mm

[高度]: 25 mm

[工作距離]: 12 mm

[數值孔徑]: 0.44

[機構相容設計]: 通用

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極高壓系列 (>90 GPa)

HeliosDAC HeliosDACPlus

HeliosDAC

[用途]: X光繞射,雷射加熱。ADXD, EXAFS, far-IR, Fluorescence, FTIR, Infrared, Raman, X-Ray

[主體材質]: Stainless Steel AISI 440C

[加壓方式]: 氣體薄膜

[最大壓力]: 100 GPa

[溫度範圍]: up to 1000°C

[外徑]: 56 mm

[高度]: 47 mm

[工作距離]: 16 mm

[數值孔徑]: 0.42

[機構相容設計]: 通用

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HeliosDAC 加熱配線示範影片

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